Bezmaskový laserový litografický systém/Direct-Write Optical Lithograph
Zadavatel
Publikace (Úř. věst. EU)
Lhůta pro podání nabídek
Odhadovaná hodnota
Trvání smlouvy
Druh zadávacího řízení
Sídlo zadavatele
Sektor
Popis
Předmětem této veřejné zakázky je moderní bezmaskový laserový litografický systém určený pro přímý laserový zápis jemných struktur na různé typy a velikosti substrátů. Jedná se o specializované laboratorní zařízení, které umožňuje vytváření přesně definovaných mikro- a nanostruktur bez nutnosti použití klasických fotolitografických masek. Účelem požadovaného zařízení je rozšíření technologické možnosti pracoviště v oblasti přípravy mikro- a nanostruktur. Zařízení umožní flexibilní a rychlou přípravu struktur bez nutnosti výroby fotomasek, čímž dojde ke zefektivnění výzkumných a vývojových činností. Pořízení zařízení přispěje ke zvýšení kvality, efektivity a konkurenceschopnosti výzkumných aktivit pracoviště. Podrobně je předmět veřejné zakázky vymezen technickými, obchodními a jinými smluvními podmínkami, které jsou součástí zadávací dokumentace.
Kódy CPV
Části (1)
Předmětem této veřejné zakázky je moderní bezmaskový laserový litografický systém určený pro přímý laserový zápis jemných struktur na různé typy a velikosti substrátů. Jedná se o specializované laboratorní zařízení, které umožňuje vytváření přesně definovaných mikro- a nanostruktur bez nutnosti použití klasických fotolitografických masek. Účelem požadovaného zařízení je rozšíření technologické možnosti pracoviště v oblasti přípravy mikro- a nanostruktur. Zařízení umožní flexibilní a rychlou přípravu struktur bez nutnosti výroby fotomasek, čímž dojde ke zefektivnění výzkumných a vývojových činností. Pořízení zařízení přispěje ke zvýšení kvality, efektivity a konkurenceschopnosti výzkumných aktivit pracoviště. Podrobně je předmět veřejné zakázky vymezen technickými, obchodními a jinými smluvními podmínkami, které jsou součástí zadávací dokumentace.
Kritéria hodnocení